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產(chǎn)品描述
參數(shù)
TDF系列X射線晶體分析儀
概述
TDF系列X射線晶體分析儀是研究物質(zhì)內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)的一種大型分析儀器，主要應(yīng)用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點陣參
數(shù)、測定殘余應(yīng)力、研究板材、棒材的結(jié)構(gòu)、研究未知物質(zhì)的結(jié)構(gòu)和單晶位錯等。
特點
TDF系列X射線晶體分析儀采用立式管套，四個窗口可以同時使用。
TDF系列X射線晶體分析儀采用進口PLC控制技術(shù)，控制精度高、抗干擾性好，可實現(xiàn)本系統(tǒng)可靠地工作，PLC控制高壓的
開關(guān)、升降、具有自動訓(xùn)練X光管的功能，有效的延長X射線管及儀器的使用壽命。
高壓發(fā)生器（采用進口PLC控制）
管電壓：10-60KV；
管電流：2-60mA；
管電壓、管電流穩(wěn)定度≤±0.005%；
額定輸出功率：3KW。
高壓電纜
介電電壓≥100KV；
長度：2M。
X射線管
額定功率：2.4KW；
焦點尺寸（mm2）：點焦點（1×1）線焦點（1×10）；
靶材：Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等。
X射線照相機
勞厄相機（大小粉末）
平板相機
三維樣品臺
美國Multiwire相機
X射線防護罩
采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線防護罩，外射線量不大于0.1µ Sv/h
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